stworzyli płytkę z nowego materiału, który umożliwi produkcję chip” class=”has–dimensions” width=”948″ height=”593″ width=”948″ height=”593″ />
Naukowcy z Uniwersytetu w Pekinie opracowali płytkę z innowacyjnego materiału, który umożliwia produkcję chipów o niezwykłych właściwościach
Paweł Rożyński
Reklama
Chińscy badacze stworzyli pierwszy na świecie układ z dwuwymiarowego selenku indu (InSe), który przewyższa wydajnością krzem i otwiera drogę do chipów nowej generacji.
Reklama Reklama
Uważany za „złoty półprzewodnik”, InSe od dawna przyciąga uwagę naukowców swoją unikalną kombinacją cech: wysoką mobilnością elektronów, odpowiednią szerokością pasma energetycznego oraz ultracienką strukturą.
Jednak dotychczasowe trudności z masową produkcją były przeszkodą – aż do teraz. Zespół pod przewodnictwem prof. Liu Kaihui z Uniwersytetu Pekińskiego opracował nową strategię wzrostu materiału „solid–liquid–solid” (ciało stałe–ciecz–ciało stałe), która pozwoliła osiągnąć niespotykaną jakość kryształów oraz czystość fazową na całej powierzchni wafla o średnicy 2 cali.
Jakie przewagi ma nowy materiał nad krzemem? Jak został stworzony?
Zgodnie z badaniami, tranzystory oparte na InSe przewyższają krzem w wielu aspektach: mobilność elektronów dochodzi do 287 cm²/V·s, a także uzyskano bardzo niski współczynnik przełączania w temperaturze pokojowej.
Przy długościach bramki poniżej 10 nm, urządzenia wykazały minimalne prądy upływu, wysokie współczynniki włączenia/wyłączenia oraz wydajny transport balistyczny, przekraczając nawet standardy IRDS na 2037 rok dla produktu opóźnienie–energia (energy-delay product).
Produkcja InSe na poziomie wafla to znaczące osiągnięcie. Materiał ten jest wyjątkowo trudny w obróbce z powodu ekstremalnych różnic ciśnień pary pomiędzy indiem a selenem oraz tendencji do formowania wielu stabilnych faz. Te wyzwania od dawna uniemożliwiały syntezę materiału na dużą skalę – dotychczas udawało się uzyskać jedynie mikroskopijne płatki.